Ultris XMR 框幅式高光谱成像仪

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Ultris XMR代表了新一代框幅式高光谱成像技术,具有高达17 Cubes/s的测量速度,不存在通道错位问题,可获取430-910nm(可定制)光谱范围的高光谱数据,以满足定制化应用需求;还可配置高级型号ULTRIS X20的光学模组,获得更窄的FWHM,为高精度光谱分析提供更高的光谱分辨率。支持用户根据具体需求灵活选择镜头,还可将设备安装于显微镜等其他光学系统,满足多种科学和工业成像要求。

仪器特色

▶   瞬时同步成像无畸变

▶   支持高光谱成像定制化应用

▶   1000*1000像素/Cube,17 Cubes/s

▶   仪器轻便,易于搭载无人机

技术参数

ULTRIS XMR框幅式高光谱成像仪

分光技术

光场成像

探测器面阵

24 MP

空间分辨率

1000*1000像素

位深

12 Bit

波长范围

430~910 nm/定制

FOV视场

视镜头

光谱波段

51

最大帧率 17fps(8bit)/12fps(12bit)

光谱采样

8 nm

重量

700g

FWHM

25 nm

尺寸

40×40×217 mm

 

 

 

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