Ultris XMR 框幅式高光谱成像仪
Ultris XMR代表了新一代框幅式高光谱成像技术,具有高达17 Cubes/s的测量速度,不存在通道错位问题,可获取430-910nm(可定制)光谱范围的高光谱数据,以满足定制化应用需求;还可配置高级型号ULTRIS X20的光学模组,获得更窄的FWHM,为高精度光谱分析提供更高的光谱分辨率。支持用户根据具体需求灵活选择镜头,还可将设备安装于显微镜等其他光学系统,满足多种科学和工业成像要求。
仪器特色
▶ 瞬时同步成像无畸变
▶ 支持高光谱成像定制化应用
▶ 1000*1000像素/Cube,17 Cubes/s
▶ 仪器更轻便,易于搭载无人机
技术参数
ULTRIS XMR框幅式高光谱成像仪 |
|||
分光技术 |
光场成像 |
探测器面阵 |
24 MP |
空间分辨率 |
1000*1000像素 |
位深 |
12 Bit |
波长范围 |
430~910 nm/可定制 |
FOV(视场) |
视镜头 |
光谱波段 |
51 |
最大帧率 | 17fps(8bit)/12fps(12bit) |
光谱采样 |
8 nm |
重量 |
700g |
FWHM |
25 nm |
尺寸 |
40×40×217 mm |
无人机多源遥感测量系统
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